화학적 세척 후에 MEMS 센서 웨이퍼를 건조할 때는 열이 필요합니다. 하지만 빠르게 열을 공급해야 합니다. 다만 문제가 있습니다. 가연성이나 폭발성이 있는 증기가 주변에 있을 경우, 일반적인 적외선 램프는 단순한 도구가 아니라 위험한 요소가 됩니다. 누구도 실험실에...

기계를 가열하는 대신 웨이퍼를 직접 가열하세요. 드라이싱 챔버의 벽면을 만져보면 피부가 뜨거워지는 것을 느낄 수 있습니다. 이것이 바로 ‘열 축적’ 현상입니다. 대부분의 제조용 드라이싱 시스템은 열을 곳곳에 그냥 방출하기 때문에 이런 현상이 발생합니다. 에너지가 챔버...

생산 라인에서는 솔더 마스크를 건조시키는 과정이 단독으로 이루어지는 것이 아닙니다. 이는 리소그래피 공정 이후에 패턴의 형태를 그대로 유지하기 위한 중요한 단계입니다. 만약 열 처리 과정의 조건이 변하면, 패턴의 가장자리가 흐려지고 재작업이 필요해집니다. 저희는 전체...

CMP 이후의 건조 과정은 반도체 생산 공정에서 수율을 떨어뜨리는 주요 요인 중 하나입니다. 물자국, 미세한 스크래치, 입자의 재침착과 같은 문제들은 모두 불안정한 열 조건과 불균일한 온도 분포 때문에 발생합니다. CMP 이후의 웨이퍼 건조용 히터는 단순히 따뜻한 공...

Role 한 개의 핫스폿이 Micro LED 에피웨이퍼 캐리어 전체를 망칠 수 있다. 소프트 베이크와 하드 베이크는 단순히 화면상의 파라미터가 아니라, 깨끗한 패턴과 스크랩 로트의 경계선이다. 따라서 우리는 이러한 열 공정을 팹의 요구대로 실행할 수 있는 Micro...