半導体の洗浄工程における二酸化炭素排出の削減（面倒な手間を省いて）
正直言って、半導体製造工場における洗浄・乾燥工程は、エネルギー消費が非常に多い部分です。ここで大量の電力が無駄に消費されてしまいます。私たちはこの問題を解決する方法を長い間研究してきましたが、その答えは防水対応の赤外線ランプでした。
これらのランプは、湿気の多い洗浄室用に特別に設計されており、通常の機器では機能しないような状況でも効果を発揮します。
空気を加熱する必要がない
従来の対流式オーブンの場合、全体を加熱しようとするため、ウェーハを乾燥させるためだけに莫大なエネルギーが浪費されます。これは非効率的です。
一方、赤外線ランプは異なります。短波放射を利用してウェーハ表面に直接熱を当てます。つまり、システム全体の熱容量と戦う必要がありません。そのため、エネルギー消費量が大幅に削減されます。また、システムが停止している間もエネルギーが無駄に消費されることもありません。
湿気への対処
もし通常の石英管を洗浄工程に使用すると、それはすぐに壊れてしまいます。湿度が高すぎるからです。
そのため、私たちはこれらの装置をしっかりと密封します。高純度の石英や、水蒸気に耐えられる密封材を使用し、湿気が内部に入らないようにしています。
ただし、注意点があります。出力を適切に調整する必要があります。高密度の赤外線アレイは大量の熱を発生させます。もし排熱システムが十分でなければ、センサーや工具が壊れてしまいます。バランスが重要です。
「グリーンファクトリー」を実現する
「グリーンファクトリー」という言葉を聞くと、単なるマーケティング用語のように思えますが、実際には効率性の問題です。
赤外線ランプの利点は、すぐに動作する点です。オンになってからオフになるまで待つ必要がありません。ウェーハを運搬する間の無駄な時間もなくなります。
エンジニアが古くて重い熱源を使わず、赤外線アレイを使うことで、最も大きな効果が得られます。どこに熱を当てるかを自分でコントロールできます。これにより、1枚のウェーハあたりのエネルギー消費量が減少し、二酸化炭素排出量の削減にもつながります。そして、生産速度も低下しません。