化学洗浄後にMEMSセンサーワークを乾燥させる際には、熱が必要です。しかも、できるだけ早く熱を与える必要があります。しかし、問題点もあります。可燃性や爆発性のある蒸気が存在する場合、通常の赤外線ランプは単なるツールとしてではなく、危険な存在となります。 誰も実験室で火事が起きることを望みません。そ...

IRランプがウェーハを破壊するのを防ぎましょう。 大量生産の半導体製造ラインでは、IRランプが故障すると、単なる手間や生産停止に留まらず、大きな問題となります。 石英管が破裂すると、ガラスの破片やハロゲンガスがウェーハの上に降り注ぎます。1つのランプが故障するだけで、数秒で一括されたウェーハがダメ...

無駄なエネルギーの消耗をやめましょう：なぜゴールドコーティングされた反射板が重要なのか 正直に言って、半導体製造においてエネルギーを無駄にすることは、単に非効率的なだけでなく、設計上の欠陥でもあります。 ほとんどの標準的な赤外線ヒーターは、エネルギーをあらゆる方向に放出しています。その結果、高価な...

工具の内壁を加熱するのをやめて、ウェーハ自体を加熱しましょう。 半導体ウェーハを適切な温度に保つのは、非常に精密な作業です。しかし、通常の赤外線ランプを使用している場合、実際には無駄な労力がかかっています。そのようなランプはあらゆる方向に熱を放出するため、エネルギーの大部分が工具の内壁を温めるだけ...

ウェーハを常に清潔に保つために：IR加熱の真実 クラス100のクリーンルームで作業している場合、その苦労はご存知でしょう。わずかなほこりや微細な破片、あるいは部品から漏れ出すガスがあるだけで、全体の製品が台無しになってしまいます。 シリコンウェーハを加熱する際には、普通のランプを使ってはいけません...

なぜ、無鉛硬化処理においてIR反射器が重要なのか 半導体業界では、無鉛化や省エネルギー化への取り組みが進んでいます。長年にわたり、対流式オーブンが使用されてきましたが、正直言って、大量の空気を加熱するのは莫大なエネルギーの無駄遣いです。 そこで、私たちは赤外線（IR）を利用した硬化処理に移行しまし...

ウェハーの乾燥とは、単に温度を上げるだけではありません。重要なのは、絶対的で安定した温度コントロールです。わずかな温度の変動があれば、ウェハーが汚染されたり、応力が生じたりします。そのため、当社のハロゲンヒーターは、0.1℃という高精度な安定性を実現するように設計されています。大量生産を行う際には...

ファブの現場では、はんだマスクの乾燥というのは独立した工程ではありません。それは、リソグラフィー後にパターンの形状を維持するための重要なプロセスなのです。もし加熱条件が不安定になると、パターンの境界がぼやけてしまい、再加工が必要になります。私たちは、ウエハ全体にわたって、プロセスカードで指定された...

ウェーハを扱う際には、ソフトベイクやハードベイクの際にわずか半度の誤差があっても、重要な寸法が変わってしまったり、エッチング後にスケールが残ったり、歩留まりが低下したりすることがあります。私たちが開発した赤外線ランプソケットは、サイクルごとに一定の温度管理を実現し、ウェーハの熱挙動を制御します。...

製造現場では、300mmのウェーハには何千ものチップが搭載されており、それぞれのチップは熱歪みに敏感です。リソグラフィ装置内では、ソフトベイクとハードベイクの工程によって寸法精度が決まります。もしIR光源の均一性が保てなければ、線幅の制御も乱れ、結果として歩留まりが低下します。これは明確に測定可能...

ファブの現場では、ソフトベイク時の温度が1℃だけ変動しても、ワーク全体が台無しになってしまうことがあります。このリスクを回避するために、当社では専用の赤外線ヒーターを開発しました。これにより、ウェーハの乾燥やフォトレジストのベイキング、パッケージの硬化処理、クリーニング後の乾燥といった工程において...

実際の製造プロセスにおいては、柔軟な基板上や薄膜層においては、温度管理が不十分になると大きな問題が生じます。ソフトベイク時にわずかな温度変動があっても、重要な寸法が変わってしまいます。ハードベイクを強く行うと、苦労して維持してきたフォトレジストの形状が崩れてしまいます。不均一な温度分布では、清掃や...

ライン上では、1つのホットスポットがMicro LEDエピウエハ全体を破壊する可能性があります。ソフトベイクとハードベイクは、単なる画面上のパラメータではなく、クリーンなパターンと廃棄ロットの間に引かれた線です。そのため、ファブが要求する方法でその熱工程を実行するために、Micro LEDウエハ乾...